专利名称：一种透过率测量准确性标定方法专利类型：发明专利
发明人：刘卫静,廖志杰,何毅,林妩媚,邢廷文申请号：CN201910338867.0申请日：20190425公开号：CN110031190A公开日：20190719
摘要：本发明公开了一种透过率测量准确性标定方法，该方法用于光学元件透过率测量装置的透过率测量准确性标定中。根据光学元件基片透过率稳定的特点，测量光学元件单片及多片组合的透过率，通过比较多个基片的透过率测量值和单个基片测量结果计算得到多个基片透过率计算值，得到透过率测量的准确性。该标定方法简单，标定准确性高。
申请人：中国科学院光电技术研究所
地址：610209 四川省成都市双流350信箱
国籍：CN
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